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主營產(chǎn)品： 光學設備、電子計測儀器、科學儀器、機械加工設備、環(huán)境試驗設備、PC周邊用品、作業(yè)工具用品、物流保管用品、化學用品、FA自動化
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產(chǎn)品資料

基板用接近曝光設備
產(chǎn)品型號：MA-5501ML
簡介：

G1~G3基板用接近曝光設備MA-5501ML 基板用接近曝光設備裝載有邊緣傳感器和間隙傳感器的非接觸式近接曝光裝置。*適合觸摸屏及有機EL等的量產(chǎn)。

基板用接近曝光設備  的詳細介紹

G1~G3基板用接近曝光設備MA-5501ML

深圳市京都玉崎電子有限公司
項目擔當：陳永康
電話：13717018123

Q  Q：2853007784

網(wǎng)址：c31nq.cn

基板用接近曝光設備基板用接近曝光設備

裝載有邊緣傳感器和間隙傳感器的非接觸式近接曝光裝置。*適合觸摸屏及有機EL等的量產(chǎn)。

基板用接近曝光設備

            基板用接近曝光設備

  • 能夠進行節(jié)拍時間約20秒(標準規(guī)格機，對位容許值設定為0.5μm時。不含曝光時間。)的高速曝光處理。
  • 利用直讀式間隙傳感器與獨自的控制系統(tǒng),能夠高速度和高精度地設定掩膜與基板間的近接間隙 。
  • 可配置嚴格控制處理部位溫度環(huán)境的溫控機房。為了防止因熱而引起的基板伸縮,還可選用基板臺溫度調(diào)控系統(tǒng)。
  • 可選擇配置基板臺溫度控制系統(tǒng)及掩膜冷卻系統(tǒng)，以防止掩膜及玻璃基板因溫度差而引起的伸縮。(選購項)
  • 能夠裝載存放5張掩膜的掩膜存放庫
基板用接近曝光設備
基板用接近曝光設備基板用接近曝光設備
  MA-5501ML MA-5701ML
基板尺寸 370 x 470mm 550 x 650mm
對位 非接觸預對位～自動對位
間隙 擁有傳感性能
光源 超高壓水銀燈 ：2kW or 3.5kW or 5kW 超高壓水銀燈 ：10kW
外觀尺寸及重量 本體尺寸 W2400 x D2480 x H2290mm
(另有控制箱、局部空調(diào)、冷水機) 		W3600 x D3870 x H2500mm
(另有控制箱、局部空調(diào)、冷水機)
本體重量 1500kg 1900kg
光源重量 500kg 1100kg
無塵機房重量 250kg 300kg
選購項 掩膜冷卻、基板臺溫度調(diào)節(jié)、溫控機房、特殊對位照明
用途 觸摸屏、彩色濾光片、有機EL、C－STN、電子紙等

基板用接近曝光設備基板尺寸和水銀燈瓦數(shù)及特殊規(guī)格可商洽