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主營產(chǎn)品： 光學(xué)設(shè)備、電子計測儀器、科學(xué)儀器、機(jī)械加工設(shè)備、環(huán)境試驗設(shè)備、PC周邊用品、作業(yè)工具用品、物流保管用品、化學(xué)用品、FA自動化
產(chǎn)品中心
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產(chǎn)品資料

基板用接近曝光設(shè)備
產(chǎn)品型號：MA-5701ML
簡介：

G1~G3基板用接近曝光設(shè)備MA-5701ML 基板用接近曝光設(shè)備裝載有邊緣傳感器和間隙傳感器的非接觸式近接曝光裝置。*適合觸摸屏及有機(jī)EL等的量產(chǎn)。

基板用接近曝光設(shè)備  的詳細(xì)介紹

G1~G3基板用接近曝光設(shè)備MA-5701ML

深圳市京都玉崎電子有限公司
項目擔(dān)當(dāng)：陳永康
電話：13717018123

Q  Q：2853007784

網(wǎng)址：c31nq.cn

基板用接近曝光設(shè)備G1～G3基板用近接曝光裝置

裝載有邊緣傳感器和間隙傳感器的非接觸式近接曝光裝置。*適合觸摸屏及有機(jī)EL等的量產(chǎn)。

主要特長


            基板用接近曝光設(shè)備


  • 能夠進(jìn)行節(jié)拍時間約20秒(標(biāo)準(zhǔn)規(guī)格機(jī)，對位容許值設(shè)定為0.5μm時。不含曝光時間。)的高速曝光處理。
  • 利用直讀式間隙傳感器與獨自的控制系統(tǒng),能夠高速度和高精度地設(shè)定掩膜與基板間的近接間隙 。
  • 可配置嚴(yán)格控制處理部位溫度環(huán)境的溫控機(jī)房。為了防止因熱而引起的基板伸縮,還可選用基板臺溫度調(diào)控系統(tǒng)。
  • 可選擇配置基板臺溫度控制系統(tǒng)及掩膜冷卻系統(tǒng)，以防止掩膜及玻璃基板因溫度差而引起的伸縮。(選購項)
  • 能夠裝載存放5張掩膜的掩膜存放庫
主要規(guī)格基板用接近曝光設(shè)備
  MA-5501ML MA-5701ML
基板尺寸 370 x 470mm 550 x 650mm
對位 非接觸預(yù)對位～自動對位
間隙 擁有傳感性能
光源 超高壓水銀燈 ：2kW or 3.5kW or 5kW 超高壓水銀燈 ：10kW
外觀尺寸及重量 本體尺寸 W2400 x D2480 x H2290mm
(另有控制箱、局部空調(diào)、冷水機(jī)) 		W3600 x D3870 x H2500mm
(另有控制箱、局部空調(diào)、冷水機(jī))
本體重量 1500kg 1900kg
光源重量 500kg 1100kg
無塵機(jī)房重量 250kg 300kg
選購項 掩膜冷卻、基板臺溫度調(diào)節(jié)、溫控機(jī)房、特殊對位照明
用途 觸摸屏、彩色濾光片、有機(jī)EL、C－STN、電子紙等

基板用接近曝光設(shè)備基板尺寸和水銀燈瓦數(shù)及特殊規(guī)格可商洽